1、ඕස්ටෙනිටික් සමාවයවික සංක්‍රාන්ති රූප සටහනේ සාමාන්‍ය කොටසෙහි, එනම්, 500-600℃ පමණ, ජලය වාෂ්ප පටල අවධියේ පවතින අතර, සිසිලන වේගය ප්‍රමාණවත් තරම් වේගවත් නොවේ, එය බොහෝ විට සෑදෙන "මෘදු ලක්ෂ්‍ය" වෙත යොමු කරයි. අසමාන සිසිලනය සහ ව්‍යාජ සිසිලන වේගය ප්‍රමාණවත් නොවේ. මාර්ටෙන්සිටික් පරිවර්තන පද්ධතියේ, එනම් 300-100℃ පමණ ජලය තාපාංක අවධියේ පවතී, සිසිලන වේගය ඉතා වේගවත් වේ, මාර්ටෙන්සිටික් පරිවර්තන වේගය ඉතා වේගවත් වන අතර අභ්‍යන්තර ආතතිය විශාල ප්‍රමාණයක් ඇති කරයි, එහි ප්‍රතිඵලයක් ලෙස ව්‍යාජ විරූපණය හෝ ඉරිතැලීම පවා සිදු වේ.

2, ජල උෂ්ණත්වය සිසිලන ධාරිතාවට විශාල බලපෑමක් ඇති කරයි, එබැවින් එය පරිසර උෂ්ණත්වයේ වෙනසට සංවේදී වේ. ජල උෂ්ණත්වය වැඩි වන විට, සිසිලන ධාරිතාව තියුනු ලෙස අඩු වන අතර, උපරිම සිසිලන අනුපාතයේ උෂ්ණත්ව පරාසය අඩු උෂ්ණත්වයට ගමන් කරයි. ජල උෂ්ණත්වය 30℃ ඉක්මවන විට, 500-600℃ පරාසයේ සිසිලන වේගය පැහැදිලිවම අඩු වේ. ව්‍යාජය දැඩි නොවීමට තුඩු දෙයි, නමුත් මාර්ටෙන්සයිට් පරිවර්තන පරාසයේ සිසිලන වේගයට අඩු බලපෑමක් ඇති කරයි.ජල උෂ්ණත්වය ඉහළ යන විට 60℃, සිසිලන අනුපාතය 50% කින් පමණ අඩු වනු ඇත.

3, ජලයේ වැඩි වායුවක් (අලුත් ජලය වැනි) හෝ තෙල්, සබන්, මඩ වැනි දිය නොවන අපද්‍රව්‍ය සමඟ මිශ්‍ර වූ ජලය එහි සිසිලන ධාරිතාව සැලකිය යුතු ලෙස අඩු කරන බැවින් භාවිතය සහ කළමනාකරණය කෙරෙහි විශේෂ අවධානයක් යොමු කළ යුතුය.
ජලයේ සිසිලන ලක්ෂණ අනුව, කුඩා කොටස් ප්‍රමාණයෙන් සහ සරල හැඩයෙන් යුත් කාබන් වානේ ව්‍යාජ නිවාදැමීම සහ සිසිලනය සඳහා ජලය H භාවිතා කළ හැක. නිවාදැමීම ද සැලකිල්ලට ගත යුතුය: ජල උෂ්ණත්වය සෙල්සියස් අංශක 40 ට අඩු, හොඳම 15 සිට 30 ℃ අතර , සහ ජලය හෝ දියර සංසරණය තබා, ව්යාජ මතුපිට වාෂ්ප පටල විනාශ කිරීමට, ද නිවාදැමීමේ දී පැද්දෙන වැඩ ෙකොටස් භාවිතා කළ හැක (හෝ වැඩ කොටස ඉහළට සහ පහළට ගමන් කරයි) වාෂ්ප පටලය යටපත් කිරීමේ ක්‍රමය, 500-650 ℃ අතර සිසිලන මට්ටම වැඩි කිරීම, සිසිලන තත්ත්වයන්, මෘදු ලක්ෂ්‍ය නිපදවීමෙන් වළකින්න.

සිට:168 ව්යාජ දැල