1、ඕස්ටෙනිටික් සමාවයවික සංක්‍රාන්ති රූප සටහනේ සාමාන්‍ය කොටසෙහි, එනම්, 500-600℃ පමණ, ජලය වාෂ්ප පටල අවධියේ පවතින අතර, සිසිලන වේගය ප්‍රමාණවත් තරම් වේගවත් නොවේ, එය බොහෝ විට සෑදෙන "මෘදු ලක්ෂ්‍ය" වෙත යොමු කරයි. අසමාන සිසිලනය සහ ව්‍යාජ සිසිලන වේගය ප්‍රමාණවත් නොවේ. මාර්ටෙන්සිටික් පරිවර්තන පද්ධතියේ, එනම් 300-100℃ පමණ, ජලය තාපාංක අවධියේ පවතී, සිසිලන වේගය ඉතා වේගවත්ය, මාර්ටෙන්සිටික් පරිවර්තන වේගය වේගවත් කිරීමට පහසුය. අභ්‍යන්තර ආතතිය විශාල ප්‍රමාණයක් ඇති කරයි, එහි ප්‍රතිඵලයක් ලෙස ව්‍යාජ විරූපණය හෝ ඉරිතැලීම් පවා ඇති වේ.

2, ජල උෂ්ණත්වය සිසිලන ධාරිතාවට විශාල බලපෑමක් ඇති කරයි, එබැවින් එය පරිසර උෂ්ණත්වයේ වෙනසට සංවේදී වේ. ජල උෂ්ණත්වය වැඩි වන විට, සිසිලන ධාරිතාව තියුනු ලෙස අඩු වන අතර, උපරිම සිසිලන අනුපාතයේ උෂ්ණත්ව පරාසය අඩු උෂ්ණත්වයට ගමන් කරයි. ජල උෂ්ණත්වය 30℃ ඉක්මවන විට, 500-600℃ පරාසයේ සිසිලන වේගය පැහැදිලිවම අඩු වේ. ව්‍යාජය දැඩි නොවීමට තුඩු දෙයි, නමුත් මාර්ටෙන්සයිට් පරිවර්තන පරාසයේ සිසිලන වේගයට සුළු බලපෑමක් ඇති කරයි.ජල උෂ්ණත්වය සෙල්සියස් අංශක 60 දක්වා වැඩි කළ විට, සිසිලන වේගය 50% කින් පමණ අඩු වේ.

3, ජලයේ වැඩි වායුවක් (අලුත් ජලය වැනි) හෝ තෙල්, සබන්, මඩ වැනි දිය නොවන අපද්‍රව්‍ය සමඟ මිශ්‍ර වූ ජලය එහි සිසිලන ධාරිතාව සැලකිය යුතු ලෙස අඩු කරන බැවින් භාවිතය සහ කළමනාකරණය කෙරෙහි විශේෂ අවධානයක් යොමු කළ යුතුය.
ජලයේ සිසිලන ලක්ෂණ අනුව, කුඩා කොටස් ප්‍රමාණයෙන් සහ සරල හැඩයෙන් යුත් කාබන් වානේ ව්‍යාජ නිවාදැමීම සහ සිසිලනය සඳහා ජලය H භාවිතා කළ හැක. නිවාදැමීම ද සැලකිල්ලට ගත යුතුය: ජල උෂ්ණත්වය සෙල්සියස් අංශක 40 ට අඩු, හොඳම 15 සිට 30 ℃ අතර , සහ ජලය හෝ දියර සංසරණය තබා, ව්යාජ මතුපිට වාෂ්ප පටල විනාශ කිරීම සඳහා, වාෂ්ප පටලය යටපත් කිරීමට, 500-650 අතර සිසිලන මට්ටම වැඩි කිරීමට, නිවාදැමීමේදී (හෝ වැඩ කොටස ඉහළට සහ පහළට චලනය කිරීමට) ක්‍රමයේදී පැද්දීමේ වැඩ කොටස භාවිතා කළ හැකිය. ℃, සිසිලන තත්ත්වයන්, මෘදු ලක්ෂ්‍ය නිපදවීමෙන් වළකින්න.

සිට:168 ව්යාජ දැල